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影响集成电路用超纯水设备运行的因素有哪些

2018-07-21

  随着电子行业的日益迅速发展,集成电路的生产用水要求也越来越高。对集成电路的质量要求越高,则水质的要求相对来说也就越严格。集成电路用超纯水设备是根据电子行业的特殊要求设计并生产的一款水处理设备,具有自动化程度高、运行稳定、品质有保证特点,用户可以根据自己实际的生产需要,调整设备的出水量。集成电路用超纯水设备广泛的应用在大型工业、电子领域。


  影响集成电路用超纯水设备运行的因素有:

  1)、浊度、污染指数(SDI)的影响。

  EDI组件产水通道内填充有离子交换树脂,过高的浊度、污染指数会使通道堵塞,造成系统压差上升,产水量下降。

  2)、硬度的影响。

  如果EDI中进水的残存硬度太高,会导致浓缩水通道的膜表面结垢,浓水流量下降,产水电阻率下降;影响产水水质,严重时会堵塞组件浓水和极水流道,导致组件因内部发热而毁坏。

  3)、TOC(总有机碳)的影响。

  进水中如果有机物含量过高,会造成树脂和选择透过性膜的有机污染,导致系统运行电压上升,产水水质下降。同时也容易在浓缩水通道形成有机胶体,堵塞通道。

  4)、Fe、Mn等金属离子的影响。

  Fe、Mn等金属离子会造成树脂的“中毒”。树脂的金属“中毒”会造成EDI出水水质的迅速恶化,尤其是硅的去除率迅速下降。另外变价属对离子交换树脂的氧化催化作用,会造成树脂的永久性损伤。

  5)、进水中CO2的影响。

  进水中CO2生成的HCO3-是弱电解质,容易穿透离子交换树脂层而造成产水水质下降。

  6)、总阴离子含量(TEA)的影响。

  高的TEA将会降低EDI产水电阻率,或需要提高EDI运行电流,而过高的运行电流会导致系统电流增大,余氯浓度增大,对极膜寿命不利。

  7)、工作电压-电流的影响。

  工作电流增大,产水水质不断变好。但如果在增至最高点后再增加电流,由于水电离产生的H+和OH-离子量过多,除用于再生树脂外,大量富余离子充当载流离子导电,同时由于大量载流离子移动过程中发生积累和堵塞,甚至发生反扩散,结果使产水水质下降。

  8)、EDI进水电导率的影响。

  在相同的操作电流范围下,随着原水电导率的增加EDI对弱电解质的去除率减小,出水的电导率也增加。如果原水电导率低则离子的含量也低,而低浓度离子使得在淡室中树脂和膜的表面上形成的电动势梯度也大,导致水的解离程度增强,极限电流增大,产生的H+和OH-的数量较多,使填充在淡室中的阴、阳离子交换树脂的再生效果良好。

  净得瑞超纯水设备系统主要采用全自动反渗透+电去离子(EDI)+抛光混床超纯水处理技术,前置预处理加反渗透处理,有效去除水中各种盐份及杂质,然后运用CEDI及抛光混床系统,进一步提升水质,使出水达到用水工艺要求。

  采用全自运控制,具有产水水质稳定、操作简便、运行费用低、绿色环保、维护方便等优点。

  超纯水设备系统广泛应用这些行业:新能源行业(光伏、微电子、太阳能、新材料)、电子(集成电路、显像管、线路板、电脑元件、电容器等)、电力(核电、光电、火力发电等)、光学、半导体、单/多晶硅、表面处理、化工、电镀等相关行业。

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